台积电在2nm制程节点上取得重大突破
2024-10-10 09:43:57 来源: 评论:0 点击:
台积电在2nm制程节点上取得重大突破,将首次引入Gate-all-around FETs晶体管技术。相较于当前的N3E工艺,N2工艺预计将在相同功率下实现10%至15%的性能提升,或在相同频率下将功耗降低25%至30%。
相关热词搜索:
上一篇:阿斯利康和石药集团达成独家授权协议
下一篇:最后一页
分享到:
收藏